地質文献データベース (GEOLIS) [(国研)産業技術総合研究所地質調査総合センター編]

希薄酸水溶液によるアロフェンからのAl及びSiの溶出に及ぼす各種陰イオン処理の影響（第2報）（ポスターセッション）（演旨）

著者（日本語）=逸見 幾代, 松枝 直人, 逸見 彰男

資料名（日本語）=粘土科学討論会講演要旨集

巻=44

頁=202-203

発行年=2000

出版国=JPN

発行者（日本語）=日本粘土学会

論文の言語区分=JA

ID=200015159

@id=https://gbank.gsj.jp/ld/resource/geolis/200015159