Geological Literature
希薄酸水溶液によるアロフェンからのAl及びSiの溶出に及ぼす各種陰イオン処理の影響(第2報)(ポスターセッション)(演旨)
逸見 幾代, 松枝 直人, 逸見 彰男
| item | description |
|---|---|
| Title | 希薄酸水溶液によるアロフェンからのAl及びSiの溶出に及ぼす各種陰イオン処理の影響(第2報)(ポスターセッション)(演旨) |
| AuthorsJ | 逸見 幾代, 松枝 直人, 逸見 彰男 |
| Data name | 粘土科学討論会講演要旨集 |
| Volume | 44 |
| Page | 202-203 |
| Year | 2000 |
| Publisher | 日本粘土学会 |
| Language | JA |
| GEOLIS URL | https://darc.gsj.jp/archives/detail?cls=geolis&pkey=200015159 |
| @id | https://gbank.gsj.jp/ld/resource/geolis/200015159 |