地質文献データベース (GEOLIS) [(国研)産業技術総合研究所地質調査総合センター編]

シリコン表面の原子層単位の酸化反応

論文題名(英語)=Layer-by-layer Oxidation of Si Surfaces

著者(日本語)=渡部 平司, 宮田 典幸, 市川 昌和

著者(英語)=WATANABE Heiji, MIYATA Noriyuki, ICHIKAWA Masakazu

資料名(日本語)=日本物理学会誌

資料名(英語)=Butsuri

巻=55

号=11

頁=846-853

発行年=2000

出版国=JPN

発行者(日本語)=日本物理学会

発行者(英語)=Physical Society of Japan

論文の言語区分=JA

アブストラクトの言語区分=JA

ISSN番号=00290181

ID=200009357

@id=https://gbank.gsj.jp/ld/resource/geolis/200009357