地質文献データベース (GEOLIS) [(国研)産業技術総合研究所地質調査総合センター編]

二次イオン質量分析法による拡散係数の測定(その2)イオン注入炭素.ボロンのSi中の拡散(演旨)

論文題名(英語)=Measurement of light elements in silicon using by secondary ion mass spectrometry 2: Diffusion of carbon and boron implanted into silicon (abs.)

著者(日本語)=湯谷 美奈, 比屋根 肇, 杉浦 直治, 浜野 洋三

著者(英語)=YUTANI M, HIYAGON H., SUGIURA N., HAMANO Y.

資料名(日本語)=地球惑星科学関連学会合同大会予稿集

資料名(英語)=Abstracts, Japan Earth and Planetary Science Joint Meeting

巻=1997

頁=796-796

発行年=1997

出版国=JPN

発行者(日本語)=日本地震学会, 日本火山学会, 日本測地学会, 日本地球化学会, 日本惑星科学会

発行者(英語)=Seismological Society of Japan, Volcanological Society of Japan, Geodetic Society of Japan, Geochemical Society of Japan, Japanese Society for Planetary Sciences

論文の言語区分=JA

ID=199710378

@id=https://gbank.gsj.jp/ld/resource/geolis/199710378