地質文献データベース (GEOLIS) [(国研)産業技術総合研究所地質調査総合センター編]

340Kまでの低温におけるシリカスケールおよびシリカゲルの溶解速度

論文題名(英語)=Dissolution Rates of Silica Scale and Silica Gel at the low temperature up to 340K

著者(英語)=NIIBORI Yuichi, KUNITA Masahisa, TOCHIYAMA Osamu, CHIDA Tadashi

資料名(日本語)=国際温泉科学会第33回箱根大会

資料名(英語)=Proceedings of the 33rd Conference of Societe Internationale des Techniques Hydrothermales (SITH) in Hakone, Kanagawa, Japan

頁=122-125

発行年=1997

出版国=JPN

発行者(日本語)=国際温泉科学会日本支部

発行者(英語)=Association Japonaise des Techniques Hydrothermales (SITH Japan)

論文の言語区分=EN

アブストラクトの言語区分=EN

ID=199705778

@id=https://gbank.gsj.jp/ld/resource/geolis/199705778