地質文献データベース (GEOLIS) [(国研)産業技術総合研究所地質調査総合センター編]

IVb族ルチル構造(γ-SiO2,GeO2,SnO2)の精密構造解析と分子軌道計算による原子間化学結合性の比較(演旨)

著者(日本語)=山中 高光, 倉島 玲伊, 土屋 卓久, 三牧 旬

資料名(日本語)=日本岩石鉱物鉱床学会学術講演会,日本鉱物学会年会講演要旨集

巻=1998

頁=25-25

発行年=1998

出版国=JPN

発行者(日本語)=日本岩石鉱物鉱床学会, 日本鉱物学会

論文の言語区分=JA

ID=199811235

@id=https://gbank.gsj.jp/ld/resource/geolis/199811235